摻硒二硫化鎢實現高性能儲鉀

爲了解决純二硫化鎢(WS2)作爲儲能電極材料時低導電率和較少離子存儲位點的問題,桂林理工大學研究者提出了异原子填充空位策略,并設計出了摻硒(Se)二硫化鎢材料,即通過引入硒原子來部分地填充WS2中的硫空位(VS)。

WS2圖片

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據中鎢在綫瞭解,二硫化鎢是一種低維度過渡金屬硫化物,具有與石墨烯相似的層狀結構,層間以範德瓦爾斯力連接,層內以W-S共價鍵鏈接。結構的特殊性,賦予了WS2較大的層間距(0.618nm)、較低的嵌鉀電位(小于1.0V)、較高的理論比容量(∼432mAh/g)等優勢,使之在鉀離子電池(PIBs)研究應用中表現出巨大的開發潜力。

不過,二硫化鎢仍然存在電導率不足和活性位點有限等問題,因而導致所製備的 PIBs的實際容量較低和使用壽命較短。爲了解决上述的問題,有研究者向硫空位中引入了WS2,這樣雖然可以提高它的導電率和反應動力學速度,但是并不能保證整個空位的活性和穩定性。

有鑒于此,桂林理工大學研究者就設計出了摻硒二硫化鎢材料,用硒原子來部分硫空位,這樣不僅可以增加WS2的層間距、穩定和激活已有的空位,從而提供更多的存儲位點來吸附鉀離子,還可以改善WS2的電導率和離子擴散動力學,以實現高性能儲鉀。

VS-WS2-Se@xNS製備示意圖(圖源:Qing Zhu/ACS Applied Materials & Interfaces)

VS-WS2-Se@xNS製備示意圖(圖源:Qing Zhu/ACS Applied Materials & Interfaces)

摻硒二硫化鎢的生産步驟:首先,采用溶劑熱反應法合成了超薄的二硫化鎢納米片;然後將其放在Ar/H2氣氛下進行高溫焙燒,使之表面上産生大量硫空位VS,獲得VS-WS2 NS;最後將Vs-WS2NS進行硒化(將活性Se填充到WS2的VS)轉化爲Vs-WS2-Se@xNS(x可爲0.5、1和2)。

該研究成果已以“Filling Selenium into Sulfur Vacancies in Ultrathin Tungsten Sulfide Nanosheets for Superior Potassium Storage”爲題發表在《ACS Applied Materials & Interfaces》期刊上。

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