WO3薄膜

WO3薄膜可以采用化学气相沉积(CVD)法制备得到。专家表示,采用CVD方法可以得到高纯度的三氧化钨薄膜,且能完全控制WO3的形貌。但是,专家还提到,该法成本高,不适用于大规模制备。

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WO3薄膜图片

这其中,什么是化学气相沉积?化学气相沉积是在反应室中使气体与原料间发生化学反应,生成物经过成核、生长,最后沉积在衬底上形成薄膜的工艺方法,可分为真空CVD、常压CVD、低压CVD、等离子体增强型CVD等。有专家以堇青石蜂窝陶瓷为基体,采用CVD技术负载TiO2载体,沉浸于V、W化合物溶液中,最终制备出V2O5-WO3/TiO2催化剂材料。

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