黄色氧化钨薄膜的电致变色机理可以采用目前最为被学术界普遍接受和应用的双注入模型来解释。双注入模型，即阳离子、电子的双注入模型，也称为Faughnan模型，是由Faughnan于1975年提出的。
更多内容请访问：
http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html
双注入模型认为：当对WO3薄膜增加负向电压时，电子e-和阳离子M+同时从两侧注入到WO3晶格中的缺陷位置，反应生成钨青铜MxWO3呈现蓝色。当对WO3薄膜增加相反电压，e-和阳离子M+同时从薄膜中抽出，蓝色的钨青铜MxWO3消失，薄膜由蓝色变为无色。注入的e-使W6+变为W5+，产生了两种W晶格位置（M、N），W原子的电子在W6+与W5+两种晶格位置之间跃迁，从而WO3在蓝色与无色之间转变。由此可见，在钨青铜中W6+与W5+共存，颜色的变化来源于电子在W6+与W5+两个不同能级之间的跃迁。
