高光电性能氧化钨薄膜

高光电性能氧化钨薄膜可以采用水热法制备得到。其中,专家采用盐酸和杂多酸共同酸化。他们发现,在酸化过程中掺入少量的杂多酸就能较大幅度地提高制得的WO3薄膜的光电性能。下面主要介绍该种方法制备高光电性能WO3薄膜的具体步骤:

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高光电性能氧化钨薄膜图片

水热法制备高光电性能氧化钨薄膜
第一步:称取0.7mmol Na2WO4•2H2O溶于30mL去离子水中,室温搅拌下逐滴加入6mL 3MHCl溶液,再加入磷钨酸,加入磷钨酸的摩尔量是钨酸钠的5%,搅拌至白色沉淀不再增加;
第二步:加入1.6mmol (NH4)2C2O4作为结构导向剂,补加去离子水至溶液总体积为70mL,继续搅拌2h。将预先清洗好的FTO导电玻璃倾斜放入反应釜内衬中。将上述溶液移入反应釜中,密封后放入鼓风干燥箱中,于150℃下水热反应24h,自然冷却至室温。
第三步:取出导电玻璃,用去离子水清洗,于烘箱60℃下干燥,在500℃煅烧1h,制得WO3薄膜。

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