纳米结构三氧化钨可以采用溅射法、水热法、溶胶凝胶法、热蒸发法、化学气相沉积法、阳极氧化法以及模板法等方法制备得到。
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其中，水热法设备简单，原材料丰富，反应温度低，产物结晶度高，可合成一些特殊结构的材料，适合大规模生产，受到了广泛的研究。有专家最先采用水热法在钨片上制备纳米树状WO3薄膜，也有专家首次采用溶剂热法在预先制备W03籽晶层的FTO基底上制得WO3纳米片阵列薄膜，还有专家分别研究了反应条件和添加剂对溶剂热法制备的三氧化钨薄膜形貌的影响。此外，有专家采用水热法直接在基底制备六方相WO3纳米棒阵列薄膜，研究发现溶液的pH值对薄膜的形貌及排布方式有重要影响。也有专家通过水热法在没有籽晶层的FTO基底生长垂直纳米片阵列薄膜，并研究了不同添加剂、反应时间和反应温度对形貌以及光电性能的影响。
