钼掺杂氧化钨薄膜是通过在氧化钨薄膜中掺杂氧化钼（MoO3）获得的。而不同MoO3掺杂比例的氧化钨膜可以通过电子束蒸发法制备得到。其中，钼的掺杂对WO3薄膜的电致变色特性有一定的影响。
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专家表示，在着色过程中，H+离子和电子注入了WO3晶格结构中，并在其中发生了阴极还原反应：W6+→W5+，其结果是产生了蓝色的钨青铜结构。相反，在漂白过程中，H+离子和电子从钨青铜结构中抽出，发生了阳极氧化反应：W5+→W6+。此外，专家还讲到，随着Mo含量的增加，交换电荷量有所减少。这一方面是由于掺Mo量增多使得氧化钨薄膜内部缺陷增多，缺陷代替外部电荷参与交换引起的；另一方面是由于W、Mo能带之间的相互跃迁的结果。也正是由于这种带内跃迁，使得掺杂氧化钨的吸收峰向高能侧漂移——这是因为W、Mo之间的带内跃迁的能量高于W5+与W6+和Mo5+与Mo6+之间的跃迁能量。
