钨靶材又称为钨溅射靶材，是一典型的纯钨制品，具有纯度高，熔点高，密度大，偏转力度高，热化学稳定性良好，电阻低，无毒和无放射性等特性，广泛应用于平面显示器、太阳能电池、集成电路、汽车玻璃、医疗设备等产品中。专利号为CN102513789A的研究者提供一种钨靶材的制作方法，具体步骤如下：
钨靶材图片
提供钨靶材坯料；对坯料表面进行机械加工；将机械加工后的坯料放入真空包套并抽真空，抽真空步骤是通过脱气管完成的；对真空包套内的坯料进行锻造；对锻造后的真空包套内的坯料进行压延；压延完后，进行冷却并去除真空包套即可。
该生产技术的注意事项：
1）所述抽真空后，还需对真空包套进行第一次热处理的步骤：进行至温度为200°C〜500°C后，进行保温步骤，加热及保温过程中，持续抽真空使真空包套内的真空度至少为10^-3Pa，之后进行对真空包套内的钨靶材坯料进行锻造步骤。
2）对真空包套内的坯料进行锻造步骤之前还需对坯料进行第二次热处理。第二次热处理的温度900°C〜1500°C，并在此温度下保温1h〜5h。
3）对真空包套内的钨坯料进行锻造步骤之后和对锻造后的真空包套内的坯料进行压延步骤之前，还包括对真空包套内的坯料进行第三次热处理。第三次热处理的温度900°C〜1500°C，并在此温度下保温0.8h〜1h。
钨靶材图片
与现有技术相比，该生产方法具有以下优点：不需要模具，可避免在空气中对坯料进行加工延展时出现裂缝和表面易氧化的问题，能够制作出内部组织结构均匀，晶粒大小符合溅射靶材要求的钨靶材，而且具有易加工、废品率低的优点。
