高纯钨靶材厦门中钨在线科技有限公司

高纯钨靶材可以用于半导体等领域。在高纯度钨靶材的制备过程中，可采用电感耦合等离子质谱法（ICP-MS）对高纯钨（W）粉的纯度进行分析。而对最终制备的高纯W靶材产品，一般采用辉光放电质谱法（GDMS）进行直接分析。高纯钨靶材图片
高纯W粉是制备高纯钨靶材的基础原料。为制备高纯和超纯W粉，一般选用含U和Th低的仲钨酸铵（APT）作原料，通过沉淀分离、溶剂萃取分离、离子交换分离等化学方法，去除APT中的大部分杂质，如As、P、Si等；纯化后的高纯APT通过煅烧、还原等工艺过程，制备出高纯W粉；制得的高纯W粉可采用电子束熔炼、区域熔炼、真空脱气处理等物理提纯工艺，进一步脱除金属钨中杂质，得到更高纯度的高纯W材料。高纯W中痕量元素的测定是评价高纯W性能的重要标准。在高纯W的生产过程中，厂房内应保持高度清洁，以减少产品中的杂质。