有专家对不同温度下制备的掺钛氧化钨电致变色薄膜进行XRD分析。下图为不同温度下制备的掺Ti的WO3电致变色薄膜的XRD图谱，与FTO玻璃基底XRD衍射峰（标为△）对比可以发现：
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http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html
随着温度的升高，在300℃，在2θ=23.96°、2θ=34.04°附近出现新的衍射峰（标为#），经过比对与JCPDF卡片41-0905相符合，对应立方晶系WO3的（100）和（110）晶面。温度升至350℃时，特征峰强度增强，薄膜的结晶程度增强。晶态WO3薄膜掺杂Ti元素后晶体结构发生变化，由单斜晶系转变立方晶系。在衍射图谱中没有检测到TiO2峰，说明少量Ti掺杂在薄膜中未形成独立的TiO2，而Ti4+离子半径（0.0605nm）与W6+离子半径（0.060nm）相近，Ti原子替代部分W原子位置形成置换固溶体。
