超细纳米碳化钨粉的颗粒度较小，具有极高的硬度、密度、熔点，是制备溅射靶材、电子发射材料等的主要原料。
应用
超细纳米碳化钨粉是制备高质量钨基电触头材料、电子封装材料、集成电路难熔栅和阻挡层的溅射靶材、电子发射材料等的主要原料，其质量直接影响着这些钨基电子材料产品的最终性能。
制备
选择同超细APT为原料，通过优化工艺在回转炉内调整工艺参数制备出BET粒度小于300nm的纳米WO3，然后将WO3在还原炉内通过逆氢低温快速还原工艺制取BET粒度小于100nm的纳米钨粉，最后以纳米钨粉为原料利用低温快速碳化法生产出BET粒度小于200nm的超细纳米碳化钨粉。
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