钨箔

钨箔可以通过电解抛光在硫酸甲醇体系中制备得到,用于状态方程(EOS)靶等用途。

钨箔的常用制备方法包括以下两种方法:
1.沉积法,如蒸发镀膜、溅射沉积、脉冲激光气相沉积等;
2.机械法,如轧制、金刚石车削、机械研磨抛光等。钨箔图片
采用各种沉积方法制备的钨箔的表面光洁,但膜的密度较低且沉积速率较慢。轧制和机械研磨抛光在制备过程中,在箔膜表面易产生加工硬化层和残余应力,存在严重的结晶取向和位错等问题。另外,因为钨的高硬度和极端脆性使得机械加工仍存在着较大困难。

所以,电解抛光方法为优选,此法是基于阳极溶解原理去除金属,适用于任何硬度的金属,能够去除表面硬化、缺陷和沾污问题。

更多内容请访问:
http://www.tungsten.com.cn/chinese/tungsten-foil.html

留下回复

联系地址:福建省厦门市软件园二期望海路25号3楼;邮编:361008 © 1997 - 2023 中钨在线版权所有,未经允许禁止转载 闽ICP备05002525号-1

电话:0592-5129696,0592-5129595;传真:0592-5129797;电子邮件:sales@chinatungsten.com

旧版