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作者:中钨在线 文章来源:伪原创 更新时间:2016-3-29 18:46:45 |
三氧化钨光催化应用
三氧化钨是一种n型半导体,带隙能在2.8eV左右,吸收波段位于可见光范围内,有较好的可见光催化活性。三氧化钨具有较高的太阳能利用率,良好的可见光响应性以及较强的抗光腐蚀性,是一种理想的光电化学反应体系光阴阳半导体材料,在光解制氢和光催化降解有机物等领域得到广泛的应用。
1. 三氧化钨光解制氢
三氧化钨禁带宽度较低,具有良好的可见光响应,有较高的太阳能利用率。在实际光催化分解水反应体系中,WO3能长时间保持优良的抗光腐蚀性以及光生电子传输性能,因此WO3是一种理想的光解水催化剂,在太阳能电解水制氢领域有广阔的前景。通常在WO3光解水体系中施加适当的偏压来光解水制氢。利用阴阳极金属钨片制备WO3光阳极,表现出良好的光电化学性能,产氢率较高。在1ml H2SO4电解质溶解溶液中,1.0V偏压条件下,水的分解率达到了70%~90%。
2. 光催化降解有机物
近年来,半导体氧化物催化降解作为一项新的污染治理技术。该治理方法高效节能、清洁无毒、无二次污染和工艺简单等特点。三氧化钨是一种较为理想的光催化剂,具有催化性能高、价格低廉、无毒、稳定性好等优点,广泛应用于有机污染物的去除。目前WO3主要是应用于光催化降解乙醛、氯仿、苯酚、有机染料等有机污染物。主要利用阴阳氧化法制备多孔状的三氧化钨,带宽度为2.94eV。在UV灯和Xe灯照射下观察对五氯苯酚的光催化降解性能。在紫外灯照射下,反应进行2小时后,三氧化钨对五氯苯酚的去除率为97.3%;在Xe灯照射下,反应进行2小时后,三氧化钨对五氯苯酚的去除率为33.8%。
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