纳米WO3薄膜可以采用溅射镀膜法制备得到。例如，有专家在未抛光的Al2O3基片上，采用直流反应磁控溅射法制备了纳米级三氧化钨薄膜。专家表示，磁控溅射是常用的溅射镀膜法。那么，你们可是知道磁控溅射的原理是？
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磁控溅射原理的原理是：利用高能粒子束轰击靶材表面，使靶材表面的原子摆脱原子间的束缚逸出；采用一定方向一定强度的磁场可控制逸出的原子或二次电子，使其以轮摆线的形式规则运动；通过将原子或二次电子束缚在靶材表面，可使辉光维持而进行溅射。
