晶态氧化钨薄膜可以在不同氧气分压下通过反应磁控溅射法制备得到。专家们通过测试分析不同氧气分压下薄膜的表面形貌和薄膜密度，研究了表面形貌和孔隙率对电致变色性能的影响。
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专家们发现，氧气分压为2.0×10−3mbar时，薄膜显示出较小的堆积密度，有更好的离子储存能力和着色效率，这是因为细小的颗粒和密集的孔洞有利于离子和电子的注入和脱出。有专家还通过调节磁控溅射功率0.7kW到1.5kW，发现随着功率的提高，氧化钨薄膜着色效率降低，同时，着色和褪色时间变长，研究结果表明，这是由于功率的改变导致薄膜密度增大引起的。
