相对于三氧化钨薄膜，钽掺杂WO3薄膜的着色效率有所提高，即薄膜的电致变色性能改善了，其中，钽掺杂量的临界值为15%，过度的掺杂则不利于薄膜呈现出高的电致变色效率。
着色效率是表征电致变色性能很重要的一个参数。着色效率是指在某一波长下，单位面积电致变色材料注入单位电荷后所引起的光密度变化，单位为cm2/C，其计算公式为
η＝ΔVOD/Q＝log（Tb/TC）/Q
式中Q为注入的电荷密度，单位为C/cm2，Tb和TC分别为退色态和着色态薄膜的透射率。通过上式计算得到W1-xTaxO3薄膜样品在可见光范围内的着色效率η如下图所示。
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从上图可以看出，当Ta掺杂量为5%和10%时，氧化钨薄膜的着色效率较未掺杂的薄膜有了较大的提高，当Ta掺杂量为15%时薄膜的着色效率与未掺杂的WO3薄膜相当。但当继续增大掺杂量时，钽掺杂WO3薄膜的着色效率明显下降，如图中样品E（Ta掺杂为25%的WO3薄膜）和样品F（Ta掺杂为35%的WO3薄膜）所示，其着色效率只有10cm2/C和5cm2/C左右。由此可见，适量的Ta掺杂有利于提高WO3薄膜的着色效率，这个掺杂量的临界值为15%。
