WO3薄膜可以通过射频磁控溅射法制备得到，作为电致变色膜，用于组装全固态灵巧窗，被认为是最具有应用前景的新型节能材料之一。有专家通过该法制备得到三氧化钨薄膜，并对沉积氧化钨薄膜的各项性能进行测试。
更多内容请访问：
http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html
那么，射频磁控溅射法制备WO3薄膜的工艺条件有哪些？镀膜室极限真空为1×10-3Pa，溅射靶材为烧结WO3陶瓷靶，靶面积为78cm2。溅射气体氩气及工作气体氧气的纯度均为99.999%，溅射气体总压强为1.1-2Pa，氧气分压强0.1-0.2Pa，靶功率密度为1.4-1.9W/cm2，沉积速率为6-8nm/min，沉积时间为15-20min。所沉积电致变色膜有效面积为5cm×5cm。沉积氧化钨薄膜的性能测试结果如下：漂白态可见光透射率：>82%；着色态可见光透射率：<20%；响应时间：<10s；开路存储时间：>24h（ΔT>20%）；工作循环周期：>105次；工作电压：<±1.9V。
