三氧化钨纳米片在有机染料污染水处理方面具有潜在的应用前景。
为什么三氧化钨纳米片在有机染料污染水处理方面具有潜在的应用前景？
中国的污水排放量大，城市污水处理率只有30%，大量未经处理的污水直接排放，成为环境的二次污染源，致使大部分的江河湖泊、城市地下水遭受不同程度的污染。而中国传统的水处理方法如吸附法、混凝法、活性污泥法，存在效率低、成本高、二次污染等问题。因此，急需寻找一种经济、有效的方法处理水中残留的难降解有机污染物。
光催化技术的出现及其在水处理中的应用研究，可望使污水处理技术在不久的将来有较大的突破。将纳米半导体材料作为光催化剂，用于污水处理成效显著。锐钛矿二氧化钛可用于光催化降解染料，但是在利用日光催化脱色染料方面有一定的局限性。而二氧化钛的能带间隙为3.2eV，只能吸收与之匹配的波长短于387nm的紫外光，但是紫外光在太阳光中所占比例只有3%左右，光能的利用效率低。三氧化钨带隙能约2.5eV，在波长小于500nm的可见光内有潜在的光催化能力。因此，WO3在有机染料污染水处理方面具有潜在的应用前景。
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